随码网网友 OC_Formula、Alejandro86、西窗旧事 提供线索，佳能发布新型芯片生产设备

随码网 10 月 14 日消息，佳能（Canon）公司近日发布新闻稿，开始销售新型芯片生产设备 FPA-1200NZ2C，这款设备采用了不同于常规光刻技术的方案，能够制造 5nm 芯片。与行业领导者 ASML 的工作原理不同，佳能的新型设备更类似于印刷技术，没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上。

这套新型设备可以应用于最小面积为 14 平方毫米的硅晶圆上，从而能够生产相当于 5nm 工艺的芯片。佳能表示，他们将会继续改进和发展这套系统，未来有望将其用于生产 2nm 芯片。

纳米印刷（Nanoprinted lithography）通常被认为是光学光刻的低成本替代品，SK 海力士和铠侠等存储芯片制造商过去曾尝试过使用此技术。然而，铠侠此前进行的测试并未获得成功，潜在客户投诉产品缺陷率较高，最终选择放弃。

在随码网的报道中还提到，佳能的这款新型芯片生产设备在印刷电路图案时不需要使用光刻机，从而减少了制造过程中的一些复杂性。这种新技术有可能为芯片制造商带来更高的生产效率和更低的生产成本。

尽管这项技术看起来很有前景，但它是否能够被广泛应用还需要时间的检验。对于佳能的这款新型芯片生产设备，我们期待看到更多关于其实际应用和性能的详细信息。